半导体布图设计

韩国知识产权局（KIPO）管理半导体集成电路布图设计保护制度。该制度不同于专利，重点在于保护半导体集成电路中电路元件及连接线的二维或三维配置，防止未经许可复制和商业利用。

概览

什么是布图设计？

布图设计是指用于制造半导体集成电路的电路元件和连接线路的平面或立体配置。在不同法域中，类似保护对象可能被称为 layout design、mask work、circuit layout 或 topography。

• 韩国：Layout Design（布图设计）
• 美国：Mask Work
• 日本：Circuit Layout
• 欧洲：Topography

什么是布图设计权？

布图设计权是一种知识产权，用于保护原创布图设计，防止第三方未经许可复制、制造、销售、进口或以其他方式商业利用相关布图和使用该布图制造的集成电路。

权利如何产生？

布图设计权通过向 KIPO 登记原创布图设计而产生。登记前的创作、商业利用日期、文件和权利归属证明都可能影响申请是否被接受。

申请

申请资格

• 创作人：实际创作布图设计的自然人或法人。
• 继受人：通过转让、继承或其他法律关系取得权利的人，需提交证明文件。
• 共同创作人：多个权利人共同创作时，原则上应共同申请。
• 非居民：通常需要通过韩国代理人或布图设计管理人办理申请。

申请应在布图设计首次商业利用日起两年内提交。超过该期限的申请可能被驳回，以平衡创作人和使用人的利益。

申请文件

• 申请人、创作人和代理人的基本信息。
• 布图设计名称、创作日期和首次商业利用日期。
• 布图设计电子文件和说明文件。
• 委托书、外国国籍或法人证明、权利继受证明等必要附件。

布图设计文件要求

申请文件应能够由计算机读取，并清楚表示布图设计的平面或立体结构。原则上应表现每一层布图，常见格式包括 GDS、GDS II、CIF、bmp、jpg、jpeg、gif、tif、tiff、pdf 等。

设定登记

登记审查要点

• 申请人是否为创作人或合法继受人。
• 共同权利是否以全体名义申请。
• 是否超过首次商业利用日起两年的申请期限。
• 申请信息、附件和费用是否完整一致。

权利效力

布图设计权人享有以营利目的使用该布图设计的专有权。该权利可以转让、共有，也可以设定专用或普通许可。权利效力通常涵盖复制布图、制造使用该布图的集成电路，以及转让、出租、展示或进口相关布图或产品。

限制和例外

反向工程、独立创作、权利用尽、教育研究分析评价或个人非营利用途等情形可能构成权利限制。具体适用需结合事实判断。

保护期间

布图设计权自登记日起保护10年，但不得超过首次商业利用日起10年或创作日起15年。

结论

对于半导体和电子企业，布图设计登记可以与专利、营业秘密和合同保护形成互补。申请人应在商业利用后尽早整理布图文件、权利归属和保密策略，以避免错过登记期限。